Lab_dot波01
双缝怎样在光屏上形成明暗条纹?
Interference & diffraction on a screen
选择单缝、双缝或多缝,改变波长、缝宽、缝距和光屏距离。直接观察条纹、衍射包络,以及光点逐渐积累成图样。
实验观察窗准备就绪
光屏位置与光强按远场模型计算 · 上方波前为相位慢放示意 · 光点按强度分布随机采样
测点相对光强
相邻缝光程差
干涉条纹间距
模拟累计光点
测量图
试着观察与解释
- 只增加波长,观察条纹间距怎样改变。
- 只增大缝宽,观察衍射包络怎样改变。
- 把相干性关闭,比较双缝图样与两个单缝强度相加。
实验记录
| 实验条件 / 进度 | 测点相对光强 / % | 相邻缝光程差 / nm | 干涉条纹间距 / mm | 模拟累计光点 / 个 |
|---|
改变条件后,记录读数并进行比较。
查看物理模型、公式与适用范围
远场强度
均匀照明的等宽缝,忽略偏振和有限光源大小。采用夫琅禾费远场模型,可用理想透镜在焦面实现,L 表示等效传播距离。不模拟自由空间的近场衍射。使用 sinθ = x/√(L² + x²),包含单缝衍射包络。
I/Ipeak = sinc²(πa sinθ/λ) · |Σexp(i2πjd sinθ/λ)/N|²
条纹与包络
双缝的干涉条纹由缝距决定,衍射包络由缝宽决定。读数中的条纹间距是近轴近似。
Δx ≈ λL/d
单缝首个暗纹:a sinθ = λ
相干与光点
不相干时只叠加强度,不出现稳定缝间干涉。屏幕光点是按计算概率生成的独立探测事件,不显示光子经过哪条缝。
Iincoherent/Ipeak = sinc²(πa sinθ/λ)